他为启明芯的“设备破局”之路，早已规划好了一条更加务实、也更加具有林氏特色的——“化整为零、核心突破、逐步替代、最终超越”的战略！
“我们不必急于求成，去追求一口气就造出整台最先进的光刻机或刻蚀机。”
林轩在巨大的全息星图上，将那些复杂的设备结构逐一分解，
如同最精明的外科医生，精准地找到了它们的“命门”所在。
“我们要做的，是像蚂蚁啃骨头一样，
先从这些‘国之重器’最核心、价值最高、也最容易被卡脖子的关键零部件和核心子系统入手！”
“比如，光刻机的光源系统！”林轩指向屏幕上那代表着ASML光刻机核心的
极紫外（EUV）光源和深紫外（DUV）准分子激光光源的复杂结构图，
“没有稳定、高能、长寿命的光源，再精密的光学镜头和工件台，也是一堆废铁！
目前，全球最先进的EUV光源技术，基本被M国的Cymer和东瀛的Gigaphoton所垄断。而DUV准分子激光器的核心技术，也同样掌握在这两家手中。”
“再比如，光刻机的投影物镜系统！”他的手指又点向另一个核心模块，
“那里面每一块镜片的材料选择、非球面加工精度、多层光学镀膜工艺、以及整个物镜系统的热稳定性控制和像差校正算法……
其技术难度，堪称人类光学精密制造的极致！目前只有德意志的蔡司一家，能够稳定供应ASML最顶级的EUV和DUV物镜。”
“还有，刻蚀机的等离子体发生器和真空系统！薄膜沉积设备的超高精度气体输送与控制单元（MFC）！
离子注入机的高能离子源和束流传输系统！
化学机械抛光设备的精密研磨头和终点检测技术！
以及所有这些设备都离不开的、超高精度的运动工件台、
特种传感器、真空控制阀门、以及为其提供‘大脑’的复杂控制软件与算法……”
林轩每点出一个核心零部件或子系统，
在场所有设备专家的脸色，便不由自主地凝重一分。
他们太清楚这些看似“微小”的部件背后，所蕴含的巨大技术鸿沟和专利壁垒了。
“我们的策略，就是—‘磨砺神兵，逐个击破！”